Himalaya HFT-1000 Hybrid-Filmdickenmesssystem
Hauptmerkmale
| Besonderheit | Nutzen |
|---|---|
| Hybrid SR + SE in einem Kopf | Messen Sie sowohl dicke (500 nm–500 µm) als auch dünne (0,5 nm–50 µm) Schichten, ohne das Werkzeug wechseln zu müssen. |
| Wiederholgenauigkeit im Subnanometerbereich | ≤0,013 nm (statisch) auf 202 nm SiO₂ – vertrauen Sie Ihren Prozesskontrollgrenzen |
| Integrierte Wafer-Spannungsberechnung | Verwendet die Stoney-Formel mit integrierter Laser-Bogenmessung – kein zusätzliches Werkzeug erforderlich |
| SECS/GEM (SEMI E30, E37) | Nahtlose Integration mit Werkshost, AMHS und MES. Online-/Offline-Modus. |
| Breitbandoptik (250–1000 nm) | Standard; erweiterbar auf DUV (193 nm) oder SWIR (2500 nm) für fortschrittliche Materialien |
| Hochpräziser Bewegungstisch | Wiederholgenauigkeit ±1 µm, Scangeschwindigkeit 100 mm/s – vollständiges 12-Zoll-Wafer-Mapping in |
Technische Spezifikationen
| Parameter | Wert |
|---|---|
| Dickenbereich (SR-Modus) | 500 nm – 500 µm |
| Dickenbereich (SE-Modus) | 0,5 nm – 50 µm |
| Wellenlängenbereich (Standard) | 250 – 1000 nm |
| Erweiterbare Optionen | 193 nm (DUV) oder 2500 nm (SWIR) |
| Wiederholbarkeit (1018 nm SiO₂ auf Si) | Statisch: ≤0,026 nm; Dynamisch: ≤0,034 nm |
| Reproduzierbarkeit (202 nm SiO₂ auf Si) | Statisch: ≤0,013 nm |
| Messfleckgröße | 10 µm – 200 µm (vom Benutzer wählbar) |
| Etappenreisen | 300 mm × 300 mm (12-Zoll-Wafer, Paneele) |
| Stufenwiederholbarkeit | ±1 µm |
| SECS/GEM-Unterstützung | Ja (E30, E37, HSMS) |
| Stressmessung | Inklusive (Laserbogen + Stoney-Formel) |
| Abmessungen (Systemeinheit) | 800 mm (B) × 900 mm (T) × 1700 mm (H) |
| Leistung | 100–240 V AC, 50/60 Hz, 500 W |
Anwendungen – Erprobt an Produktionsmaterialien
| Material | Dickenbereich | Modus | Typische Testzeit |
|---|---|---|---|
| Die Attach Film (DAF) | 10–50 µm | SR | 0,5 Sek./Punkt |
| Formmasse (Epoxidharz) | 100–500 µm | SR | 0,5 Sek./Punkt |
| Siliziumnitrid-Passivierung | 100–500 nm | SE | 2 Sek./Punkt |
| Polyimid-Pufferschicht | 5–15 µm | SR oder SE | 2 Sek./Punkt |
| SiO₂ auf Si (dünnes Gate-Oxid) | 1–200 nm | SE | 2 Sek./Punkt |
| Doppelschicht (Polyimid + SiO₂) | 10 µm + 500 nm | SR+SE sequenziell | 4,5 Sek./Standort |
✅ Geprüft amDAF-Laminierung,Kompressionsformen,Die Bonding, UndWafer-Level-PassivierungZeilen.
So funktioniert es
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Ladenein Wafer oder Substrat (manuell oder AMHS).
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WählenRezeptur (Materialstapel, Messstellen). Das System wählt automatisch SR oder SE aus.
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Messen– Breitbandoptik und Präzisionsbühne erfassen Spektraldaten.
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AusgabeDickenkarte, Brechungsindex (n,k) und Waferspannung.
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SchickenDatenübertragung an den Werksrechner über SECS/GEM zur Regelung des geschlossenen Regelkreises.
Warum sollte man sich für den HFT-1000 und nicht für Alternativen entscheiden?
| Wettbewerbsansatz | Einschränkung | HFT-1000-Vorteil |
|---|---|---|
| Einmoden-Ellipsometer | Dicke Schichten (>50 µm) können nicht gemessen werden. | Der SR-Modus deckt Bereiche bis 500 µm ab. |
| Konfokales / Weißlichtinterferometer | Schlechte Auflösung auf transparenten Dünnschichten | Der SE-Modus löst Auflösungen von |
| Kontaktstift-Profiler | Langsam, beschädigt weiche Filme (DAF) | Berührungslos, 0,5 Sek./Punkt |
| Separates Spannungsmesswerkzeug | Zusätzliche Handhabung, Ausrichtungsfehler | Integrierter Bogen + Stoney in einem Werkzeug |
Werksintegration und -unterstützung
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SECS/GEM-Standard– Plug-and-Play-fähig mit bestehenden MES-Systemen (werksseitig abnahmegeprüft).
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Offline-Modus– Eigenständiger Betrieb für Ingenieurstudien.
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Ferndiagnose– Sicherer VPN-Zugang für den Himalaya-Support.
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Kalibrierungssatz– Enthält NIST-rückführbares SiO₂ auf Si-Referenzwafern.
Bestellinformationen
| Modell | Beschreibung |
|---|---|
| HFT‑1000‑SRSE | Basissystem: 250–1000 nm, Bewegungstisch, SECS/GEM, Spannungsmodul |
| -DUV | Optionale DUV-Erweiterung (193 nm für ultradünne High-k-Filme) |
| -SWIR | Optionale SWIR-Erweiterung (2500 nm für die Inspektion dicker Epoxid- oder Silikonschichten) |
| -AMHS | Schnittstelle für automatisiertes Materialhandling (Ladeanschluss, Zuordnung) |
Kundenspezifische Konfigurationen möglich – wenden Sie sich an den Vertrieb.
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Wir bieten Vorführungen vor Ort anJiangsu Himalaya Semiconductor Co., Ltd.(Suzhou, China) oder Ferntests in Echtzeit mit Ihren Musterwafern.
📧E-Mail: seaman@himalayasemi.com
📞Telefon: +86-15995822759
🌐Web: www.himalayasemi.com
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