Machine de décollement laser de précision | Fabrication de semi-conducteurs
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Machine de décollement laser de précision pour la fabrication avancée de semi-conducteurs

Cette machine automatique haute performance machine de décollement laser Conçue pour la séparation précise de matériaux ultra-minces dans la production de semi-conducteurs et de microélectronique, notre technologie de pointe, en tant que leader du traitement laser, vous garantit une précision, une stabilité et une fiabilité inégalées pour votre ligne de production.

  • Alimentation 380 V CA ±10 %, triphasé, 50/60 Hz, 6,0 kVA
  • Circuit de refroidissement Refroidisseur en circuit fermé requis
  • Taille de la machine 2000 mm × 1500 mm × 2200 mm
  • Poids de la machine 1200 kg

Ce système de traitement laser avancé est doté de systèmes d'entraînement linéaire de haute précision pour la tête laser, la plateforme porte-plaquettes et la caméra d'alignement. Ses composants essentiels, associés à un logiciel robuste et à des contrôles de processus performants, en font une solution de pointe pour les applications exigeantes telles que la fabrication de LED GaN, la production d'écrans micro-LED et le packaging avancé.

Contactez-nous pour une solution personnalisée

Avantages du produit : Précision et contrôle inégalés

Nos systèmes de décollement laser de précision sont conçus pour exceller dans les processus critiques de fabrication de semi-conducteurs, offrant des avantages significatifs pour vos opérations de production.

Précision extrême et débit élevé

Un contrôle de mouvement optimisé, des systèmes de vision haute résolution et une technologie de faisceau laser de pointe garantissent une qualité de traitement constante et un alignement parfait, même à haute vitesse. Vous optimisez ainsi le rendement et l'efficacité de vos applications de décollement laser.

Contrôle et constance supérieurs des processus

Grâce à la surveillance intégrée de l'énergie laser, à la gestion de la température et à la validation du processus en temps réel, ce système offre un contrôle inégalé du procédé de décollement. Il élimine ainsi tout dommage au substrat, assure une séparation complète et garantit une qualité constante, lot après lot.

Polyvalence et facilité d'utilisation inégalées

Une interface logicielle conviviale permet de programmer facilement des schémas de traitement complexes. Des fonctionnalités telles que le changement rapide d'optiques et un étalonnage simple facilitent le passage d'un système de matériaux à un autre et l'adaptation aux exigences de traitement avec un temps d'arrêt minimal.

Disponibilité maximale et conception robuste

Un châssis rigide et thermiquement stable, ainsi que l'utilisation de composants laser de haute qualité et de qualité industrielle, réduisent les besoins de maintenance et augmentent la fiabilité à long terme de cet équipement de traitement des semi-conducteurs de pointe.

Vue détaillée du procédé de décollement laser (LLO).jpg


Tableau des spécifications techniques

Cette machine est conçue pour répondre aux exigences rigoureuses de la fabrication moderne de semi-conducteurs, de la R&D à la production en grande série.

Catégorie Spécification Détails
Informations générales Numéro de modèle LLO-3000 Pro
Alimentation 380 V CA ±10 %, triphasé, 50/60 Hz, 6,0 kVA
Circuit de refroidissement Refroidisseur en circuit fermé requis
Surface au sol (L×P×H) 2000 mm × 1500 mm × 2200 mm
Poids de la machine 1200 kg
Environnement d'exploitation Salle blanche classe 1000, température : 20 ± 1 °C, humidité : 45 ± 5 % HR
Système laser Type laser Laser DPSS UV
Longueur d'onde 266 nm / 355 nm (Optionnel)
Énergie d'impulsion maximale 2,0 mJ à 266 nm
Fréquence de répétition 10-100 kHz
largeur d'impulsion
Qualité du faisceau
Mouvement et positionnement Système d'entraînement Entraînement direct du moteur linéaire
Précision du positionnement ±1,0 μm
Répétabilité ±0,5 μm
Vitesse maximale X/Y : 800 mm/s
Étape minimale 0,1 μm
Vision et alignement Système de caméra Caméra CCD haute résolution 8 MP
Précision d'alignement ±2,0 μm
Reconnaissance de formes Reconnaissance automatique des repères fiduciaires
Grossissement 5X-20X (en option)
Capacité de processus Taille du substrat plaquettes de 2 à 8 pouces
Zone de traitement 300 mm × 300 mm
débit Jusqu'à 60 plaquettes/heure (2 pouces)
Taille du point laser 10 μm - 100 μm (Réglable)
Logiciels et contrôle Système de contrôle PC industriel avec écran tactile de 21 pouces
Méthode de programmation Interface utilisateur graphique
Gestion des recettes Plus de 500 recettes de transformation
Enregistrement des données Enregistrement complet des paramètres du processus
Interface SECS/GEM, Ethernet, USB

Caractéristiques et accessoires en option

Type d'option Fonctionnalités disponibles
Options laser Tête laser de puissance supérieure
Configuration à longueurs d'onde multiples
Optique de mise en forme de faisceau
Atténuateur automatisé
Options d'automatisation Port de chargement FOUP/LPU
Manipulation de plaquettes par robot
Métrologie intégrée
Mesure d'épaisseur en ligne
Surveillance des processus Surveillance énergétique en temps réel
Système de détection du plasma
Surveillance automatique de la mise au point
Système de cartographie thermique
Mises à jour logicielles Contrôle avancé des processus
Maintenance prédictive
Diagnostic à distance
Système de gestion des rendements

Solutions d'application clés

Fabrication d'écrans à micro-LED (μ-LED)

  • Détachement du substrat de saphirSéparation précise des couches épitaxiales de GaN des substrats de saphir

  • Activation du transfert de masseProcédé de décollement propre et sans dommage pour le transfert de masse des micro-LED

  • Production à haut rendementOptimisé pour les matrices de micro-LED haute densité et les applications d'affichageMachine de décollement pour la fabrication d'écrans Micro LED (μ-LED).jpg

Fabrication de dispositifs de puissance

  • Traitement des plaquettes ultra-mincesProcédé de détachement pour des plaquettes d'une épaisseur minimale de 20 µm

  • Compatibilité avec les métaux au dosTraitement sûr des plaquettes à face arrière métallisée

  • Matériaux à large bande interdite: Prise en charge des dispositifs de puissance Si, SiC et GaN

  • Gestion thermiqueContrôle thermique avancé pour les structures de dispositifs de puissance sensibles

Notre client

Nous sommes honorés de collaborer étroitement avec un large éventail de partenaires de renom au sein de l'écosystème des équipements pour semi-conducteurs. À l'échelle mondiale, nous travaillons avec des leaders du secteur tels que Honeywell, Foxconn et HP. En Chine, nous sommes partenaires d'entreprises de premier plan comme Sunny Optical Technology, Sanan Optoelectronics, HT-Tech, Tsinghua Tongfang, TUS Holdings et TCL. Nous unissons également nos forces à celles d'institutions académiques de premier plan telles que l'Université Jiaotong de Xi'an et l'Université polytechnique du Nord-Ouest, en tirant parti de leurs capacités de recherche pour stimuler l'innovation technologique et promouvoir la mise en œuvre de solutions de pointe dans le secteur des équipements pour semi-conducteurs.

Liste de nos clients en équipement semi-conducteurs.jpg


Pourquoi choisir notre équipement de décollage laser ?

Nous sommes un fournisseur de confiance d'équipements de fabrication de semi-conducteurs, offrantServices OEM/ODM et de conception personnaliséepour vous garantir la solution de décollement laser idéale pour vos systèmes de matériaux spécifiques, vos exigences de débit et vos besoins d'intégration de processus.

Expertise en semi-conducteurs de l'Himalaya.jpg

Foire aux questions (FAQ)

Q : À quels matériaux et applications cette machine convient-elle ?
UN:Cette machine est spécialement conçue pour les procédés de décollement laser dans la séparation GaN/saphir, le transfert de masse de micro-LED, le décollement de couches minces et les applications d'encapsulation avancées. Nous pouvons personnaliser le système en fonction de vos matériaux et procédés spécifiques.

Q : Comment choisir le bon machine de décollement laser pour ma candidature ?
UN:Veuillez nous communiquer les caractéristiques de votre substrat (matériau, dimensions, épaisseur), le débit cible et les exigences spécifiques de votre procédé. Nos ingénieurs d'application vous recommanderont la configuration laser et les spécifications système optimales.

Q : Quelle est la garantie et l'assistance technique ?
UN:Nous proposons une offre complèteGarantie de 18 moissur tous nos systèmes de décollement laser, avec un support technique 24h/24 et 7j/7, des services de maintenance réguliers et des pièces de rechange facilement disponibles.

Q : Fournissez-vous un soutien au développement des processus ?
UN:Oui, nous disposons d'un laboratoire d'application entièrement équipé où nous pouvons vous aider à développer et à optimiser votre procédé de décollement laser. Nous assurons le transfert complet du procédé et la formation des opérateurs.

Q : Pourquoi devrais-je choisir votre entreprise ?
UN:Nous sommes spécialisés dans la création de solutions de traitement laser sur mesure pour l'industrie des semi-conducteurs. Des systèmes de R&D aux outils de production en grande série, nous possédons l'expertise nécessaire pour optimiser vos processus de fabrication. Notre engagement envers l'innovation, la qualité et votre réussite fait de nous le partenaire idéal.


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