Sistem Pengukuran Ketebalan Film Hibrida Himalaya HFT‑1000
Fitur Utama
| Fitur | Keuntungan |
|---|---|
| Hybrid SR + SE dalam satu kepala | Mengukur film tebal (500 nm–500 µm) dan film tipis (0,5 nm–50 µm) tanpa mengganti alat. |
| Pengulangan sub-nanometer | ≤0,013 nm (statis) pada SiO₂ 202 nm – percayai batas kendali proses Anda |
| Perhitungan tegangan wafer bawaan | Menggunakan rumus Stoney dengan pengukuran busur laser terintegrasi – tanpa alat bantu tambahan. |
| SECS/GEM (SEMI E30, E37) | Integrasi tanpa batas dengan host pabrik, AMHS, dan MES. Mode daring/luring. |
| Optik pita lebar (250–1000 nm) | Standar; dapat diperluas ke DUV (193 nm) atau SWIR (2500 nm) untuk material canggih. |
| Tahap gerak presisi tinggi | Pengulangan ±1 µm, kecepatan pemindaian 100 mm/s – pemetaan wafer 12 inci penuh dalam waktu kurang dari 3 menit. |
Spesifikasi Teknis
| Parameter | Nilai |
|---|---|
| Rentang ketebalan (mode SR) | 500 nm – 500 µm |
| Rentang ketebalan (mode SE) | 0,5 nm – 50 µm |
| Rentang panjang gelombang (standar) | 250 – 1000 nm |
| Opsi yang dapat diperluas | 193 nm (DUV) atau 2500 nm (SWIR) |
| Pengulangan (1018 nm SiO₂ pada Si) | Statis: ≤0,026 nm; Dinamis: ≤0,034 nm |
| Pengulangan (202 nm SiO₂ pada Si) | Statis: ≤0,013 nm |
| Ukuran titik pengukuran | 10 µm – 200 µm (dapat dipilih pengguna) |
| Perjalanan panggung | 300 mm × 300 mm (wafer 12 inci, panel) |
| Pengulangan tahapan | ±1 µm |
| Dukungan SECS/GEM | Ya (E30, E37, HSMS) |
| Pengukuran stres | Termasuk (busur laser + formula Stoney) |
| Dimensi (unit sistem) | 800 mm (Lebar) × 900 mm (Kedalaman) × 1700 mm (Tinggi) |
| Kekuatan | 100–240 VAC, 50/60 Hz, 500 W |
Aplikasi – Terbukti pada Material Produksi
| Bahan | Rentang Ketebalan | Mode | Waktu Tes Khas |
|---|---|---|---|
| Attach Film (DAF) | 10–50 µm | SR | 0,5 detik/poin |
| Bahan cetakan (epoksi) | 100–500 µm | SR | 0,5 detik/poin |
| Pasivasi silikon nitrida | 100–500 nm | SE | 2 detik/poin |
| Lapisan penyangga polimida | 5–15 µm | SR atau SE | 2 detik/poin |
| SiO₂ pada Si (oksida gerbang tipis) | 1–200 nm | SE | 2 detik/poin |
| Lapisan ganda (Polimida + SiO₂) | 10 µm + 500 nm | SR+SE berurutan | 4,5 detik/situs |
✅ Terverifikasi padalaminasi DAF,pencetakan kompresi,ikatan die, Danpasivasi tingkat wafergaris.
Cara Kerjanya
-
Memuatwafer atau substrat (manual atau AMHS).
-
MemilihResep (susunan material, lokasi pengukuran). Sistem secara otomatis memilih SR atau SE.
-
Ukuran– Optik pita lebar dan tahap presisi mengumpulkan data spektral.
-
Keluaranpeta ketebalan, indeks bias (n,k), dan tegangan wafer.
-
MengirimData dikirim ke host pabrik melalui SECS/GEM untuk penyesuaian proses loop tertutup.
Mengapa Memilih HFT-1000 Dibandingkan Alternatif Lain?
| Pendekatan Pesaing | Keterbatasan | Keunggulan HFT-1000 |
|---|---|---|
| Elipsometer mode tunggal | Tidak dapat mengukur film tebal (>50 µm) | Mode SR mencakup hingga 500 µm |
| Interferometer konfokal / cahaya putih | Resolusi buruk pada film tipis transparan | Mode SE mampu memecahkan masalah |
| Profiler stylus kontak | Lambat, merusak film lunak (DAF) | Tanpa kontak, 0,5 detik/titik |
| Alat pengukuran stres terpisah | Penanganan tambahan, kesalahan penyelarasan | Busur terintegrasi + Stoney dalam satu alat |
Integrasi dan Dukungan Pabrik
-
Standar SECS/GEM– Pasang dan mainkan dengan MES yang sudah ada (telah diuji penerimaan pabrik).
-
Mode offline– Operasi mandiri untuk studi teknik.
-
Diagnostik jarak jauh– Akses VPN aman untuk dukungan Himalaya.
-
Kit kalibrasi– Termasuk SiO₂ yang dapat ditelusuri ke NIST pada wafer referensi Si.
Informasi Pemesanan
| Model | Keterangan |
|---|---|
| HFT‑1000‑SRSE | Sistem dasar: 250–1000 nm, tahap gerak, SECS/GEM, modul tegangan |
| -DUV | Ekstensi DUV opsional (193 nm untuk film ultra-tipis berkonstanta dielektrik tinggi) |
| -SWIR | Ekstensi SWIR opsional (2500 nm untuk inspeksi epoksi atau silikon tebal) |
| -AMHS | Antarmuka penanganan material otomatis (port pemuatan, pemetaan) |
Konfigurasi khusus tersedia – hubungi bagian penjualan.
Dapatkan Penawaran atau Demo
Kami menawarkan demonstrasi di lokasi diJiangsu Himalaya Semiconductor Co., Ltd.(Suzhou, China) atau pengujian langsung jarak jauh dengan wafer sampel Anda.
📧E-mail: seaman@himalayasemi.com
📞Telepon: +86-15995822759
🌐Web: www.himalayasemi.com
Alamat Perusahaan:
Kamar 4234, Gedung 11, No. 1258 Jalan Jinfeng Selatan, Kota Mudu, Distrik Wuzhong, Kota Suzhou, Tiongkok