Высокоточный лазерный отслаивающий станок | Производство полупроводников
Leave Your Message
AI Helps Write


Категории товаров
Рекомендуемые товары

Высокоточная лазерная установка для отслаивания полупроводников для передового производства полупроводников.

Этот высокопроизводительный автоматический лазерный отрывной станок Разработан для точного разделения сверхтонких материалов в производстве полупроводников и микроэлектроники. Будучи лидером в области лазерной обработки, мы предлагаем передовые решения для оборудования лазерной обработки, обеспечивающие высочайшую точность, стабильность процесса и надежность вашей производственной линии.

  • Источник питания 380 В переменного тока ±10%, трехфазный, 50/60 Гц, 6,0 кВА
  • Система охлаждения Требуется чиллер с замкнутым контуром.
  • Размер машины 2000 мм × 1500 мм × 2200 мм
  • Вес машины 1200 кг

Эта передовая система лазерной обработки оснащена высокоточными линейными приводами для лазерной головки, платформы для пластин и камеры выравнивания. Ее основные компоненты, дополненные надежным программным обеспечением и системами управления процессом, делают ее первоклассным решением для таких сложных задач, как производство GaN-светодиодов, микро-LED-дисплеев и передовых технологий упаковки.

Свяжитесь с нами для получения индивидуального решения.

Преимущества продукта: непревзойденная точность и контроль.

Наши высокоточные лазерные системы для отслаивания разработаны для эффективного выполнения критически важных процессов в полупроводниковом производстве, предоставляя значительные преимущества для ваших производственных операций.

Высокая точность и высокая производительность

Оптимизированное управление движением, системы машинного зрения высокого разрешения и усовершенствованная система доставки лазерного луча обеспечивают стабильное качество обработки и идеальное выравнивание даже на высоких скоростях. Это максимизирует производительность и эффективность в ваших приложениях лазерной подгонки.

Превосходный контроль и стабильность производственных процессов

Благодаря интегрированному мониторингу энергии лазера, управлению температурой и проверке процесса в режиме реального времени, эта система обеспечивает беспрецедентный контроль над процессом лифтинга. Это исключает повреждение подложки, обеспечивает полное разделение и гарантирует стабильное качество от партии к партии.

Непревзойденная универсальность и простота использования.

Удобный программный интерфейс позволяет легко программировать сложные технологические схемы. Такие функции, как быстрая смена оптики и простая калибровка, упрощают переключение между различными системами материалов и технологическими требованиями с минимальным временем простоя.

Максимальная бесперебойная работа и надежная конструкция

Жесткая, термостойкая рама и использование высококачественных лазерных компонентов промышленного класса снижают потребность в техническом обслуживании и повышают долговременную надежность этого передового оборудования для обработки полупроводников.

Детальный вид процесса лазерной подгонки (LLO).jpg


Таблица технических характеристик

Эта машина создана для удовлетворения строгих требований современного полупроводникового производства, от исследований и разработок до крупномасштабного производства.

Категория Спецификация Подробности
Общая информация Номер модели ЛЛО-3000 Про
Источник питания 380 В переменного тока ±10%, трехфазный, 50/60 Гц, 6,0 кВА
Система охлаждения Требуется чиллер с замкнутым контуром.
Площадь (Ш×Г×В) 2000 мм × 1500 мм × 2200 мм
Вес машины 1200 кг
Операционная среда Чистая комната класса 1000, температура: 20±1°C, влажность: 45±5% относительной влажности.
Лазерная система Тип лазера УФ-DPSS лазер
Длина волны 266 нм / 355 нм (опционально)
Максимальная энергия импульса 2,0 мДж при 266 нм
Частота повторения 10-100 кГц
Ширина импульса
Качество луча М²
Движение и позиционирование Система привода Прямой привод линейного двигателя
Точность позиционирования ±1,0 мкм
Повторяемость ±0,5 мкм
Максимальная скорость X/Y: 800 мм/с
Минимальный шаг 0,1 мкм
Видение и согласованность Система камер Камера CCD высокого разрешения 8 Мп
Точность выравнивания ±2,0 мкм
Распознавание образов Автоматическое распознавание фидуциарных знаков
Увеличение 5X-20X (опционально)
Производственные возможности Размер субстрата вафли размером от 2 до 8 дюймов
Технологическая зона 300 мм × 300 мм
Пропускная способность Производительность до 60 пластин в час (2 дюйма)
Размер лазерного пятна 10 мкм - 100 мкм (регулируемый)
Программное обеспечение и управление Система управления Промышленный ПК с 21-дюймовым сенсорным экраном
Метод программирования Графический пользовательский интерфейс
Управление рецептами Более 500 технологических рецептов
Регистрация данных Полная запись параметров процесса
Интерфейс SECS/GEM, Ethernet, USB

Дополнительные функции и аксессуары

Тип опции Доступные функции
Варианты лазерной обработки Лазерная головка большей мощности
Многоволновое конфигурирование
Оптика для формирования луча
Автоматический аттенюатор
Варианты автоматизации Порт загрузки FOUP/LPU
Роботизированная обработка кремниевых пластин
Интегрированная метрология
Измерение толщины в потоке
Мониторинг процессов Мониторинг энергопотребления в режиме реального времени
Система обнаружения плазмы
Автоматический контроль фокусировки
Система теплового картирования
Обновления программного обеспечения Расширенное управление технологическими процессами
Прогнозируемое техническое обслуживание
Удалённая диагностика
Система управления урожайностью

Ключевые прикладные решения

Производство микросветодиодных (μ-LED) дисплеев

  • Отделение сапфировой подложкиТочное разделение эпитаксиальных слоев GaN от сапфировых подложек

  • Обеспечение возможности массовых перевозок: Чистый, без повреждений процесс отслаивания для переноса микросветодиодов.

  • Высокоурожайное производствоОптимизирован для высокоплотных микросветодиодных матриц и дисплейных приложений.Liftoff Machine for Micro LED (μ-LED Display Manufacturing.jpg)

Изготовление силовых устройств

  • Обработка сверхтонких пластинПроцесс отделения пластин толщиной всего 20 мкм

  • Совместимость с металлическими элементами задней стороны: Безопасная обработка кремниевых пластин с металлизированной обратной стороной

  • Материалы с широкой запрещенной зонойПоддержка силовых устройств на основе Si, SiC и GaN.

  • ТерморегулированиеУсовершенствованный терморегулирование для чувствительных силовых устройств.

Наш клиент

Для нас большая честь тесно сотрудничать с широким кругом известных партнеров в экосистеме полупроводникового оборудования. В глобальном масштабе мы взаимодействуем с лидерами отрасли, такими как Honeywell, Foxconn и HP. В Китае мы сотрудничаем с ведущими предприятиями, включая Sunny Optical Technology, Sanan Optoelectronics, HT-Tech, Tsinghua Tongfang, TUS Holdings и TCL. Мы также объединяем усилия с ведущими академическими учреждениями, такими как Сианьский университет Цзяотун и Северо-Западный политехнический университет, используя их исследовательский потенциал для стимулирования технологических инноваций и содействия внедрению передовых решений в секторе полупроводникового оборудования.

Список наших клиентов, приобретающих полупроводниковое оборудование.jpg


Почему стоит выбрать наше лазерное подъемное оборудование?

Мы являемся надежным поставщиком оборудования для производства полупроводников, предлагаяУслуги OEM/ODM и разработки дизайна на заказчтобы вы могли получить идеальное решение для лазерной обработки материалов, соответствующее вашим конкретным требованиям к материалам, производительности и интеграции технологических процессов.

Himalaya semiconductor expertise.jpg

Часто задаваемые вопросы (FAQ)

В: Для каких материалов и областей применения подходит эта машина?
А:Эта установка специально разработана для процессов лазерного отслаивания при разделении GaN/сапфира, массопереносе в микросветодиодах, отслоении тонких пленок и в современных технологиях упаковки. Мы можем адаптировать систему под ваши конкретные требования к материалам и технологическим процессам.

В: Как мне выбрать правильный вариант? лазерный отрывной станок для моей заявки?
А:Свяжитесь с нами, указав данные о подложке (материал, размер, толщина), целевую производительность и конкретные требования к технологическому процессу. Наши инженеры по применению порекомендуют оптимальную конфигурацию лазера и технические характеристики системы.

В: Каковы условия гарантии и технической поддержки?
А:Мы предлагаем комплексное решение.Гарантия 18 месяцевНа все наши системы лазерного отслаивания распространяется круглосуточная техническая поддержка, регулярное техническое обслуживание и всегда доступны запасные части.

В: Оказываете ли вы поддержку в разработке технологических процессов?
А:Да, у нас есть полностью оборудованная лаборатория, где мы можем помочь в разработке и оптимизации вашего процесса лазерной подгонки. Мы предоставляем полный спектр услуг по передаче технологических процессов и обучению операторов.

В: Почему мне следует выбрать вашу компанию?
А:Мы специализируемся на создании индивидуальных решений для лазерной обработки в полупроводниковой промышленности. От систем для НИОКР до оборудования для крупносерийного производства — у нас есть опыт, позволяющий оптимизировать ваш производственный процесс. Наша приверженность инновациям, качеству и вашему успеху делает нас идеальным партнером.


Готовы вывести свои возможности в области производства полупроводников на новый уровень? Свяжитесь с нашими специалистами по лазерной обработке уже сегодня для консультации и оценки возможностей применения.