ระบบตัดแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนด้วยเลเซอร์ | การตัดแบบซ่อนเร้นสำหรับ SiC และแซฟไฟร์
ภาพรวมโดยสังเขป (สรุปกระบวนการผลิต)
- วัสดุ:เวเฟอร์ Si, SiC, แซฟไฟร์, และเวเฟอร์ที่เกี่ยวข้องกับเซลล์แสงอาทิตย์/แผงโซลาร์เซลล์
- ขนาดของเวเฟอร์:4", 6", 8" (มาตรฐาน), 12" (ตัวเลือกเสริม)
- ความเร็วในการประมวลผลสูงสุด:สูงสุด1000 มม./วินาที
- ประเภทเลเซอร์: อินฟราเรด (IR),10–200 kHzความถี่ในการทำซ้ำ
- กระบวนการ:การดัดแปลงภายใน → การขยาย/แยกฟิล์ม → การตัด (การแยกชิ้นส่วน)
- ประโยชน์:มีเศษหินกระเด็นน้อย เศษวัสดุน้อย เหมาะสำหรับถนนแคบ กระบวนการแห้ง (ไม่มีขั้นตอนการทำความสะอาด)
ขอบเขตการใช้งาน (ครอบคลุมเซมิคอนดักเตอร์ทุกประเภท)
นี้ การทอยลูกเต๋าแบบเงียบๆ ระบบนี้ได้รับการออกแบบมาสำหรับวัสดุที่ตัดยากและงานที่ต้องการผลผลิตสูง:
- แผ่นเวเฟอร์ซิลิคอน (Si):อุปกรณ์ตรรกะ หน่วยความจำ และอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ทั่วไป
- ซิลิคอนคาร์ไบด์ (SiC):อุปกรณ์กำลังไฟฟ้า (เช่น MOSFET) ที่การลดการสูญเสียจากการตัดเป็นสิ่งสำคัญ
- แผ่นเวเฟอร์แซฟไฟร์ LED:คุณภาพขอบภาพสูงเพื่อรองรับประสิทธิภาพการสกัดแสง
- วัสดุสำหรับแผงโซลาร์เซลล์ / โฟโตโวลตาอิก:การประมวลผลความเร็วสูงเพื่อประสิทธิภาพด้านต้นทุน

การแก้ไขเส้นขอบมุมกว้างรวมไว้เพื่อช่วยในการประมวลผลแผ่นเวเฟอร์บางส่วนหรือเสียหายโดยอัตโนมัติ ช่วยลดเศษวัสดุที่ไม่จำเป็นและการแทรกแซงจากแรงงานคน
วิธีการทำงานของการหั่นแบบซ่อนเร้น (การหั่นโดยการดัดแปลงภายใน)
ต่างจากการเลื่อยด้วยใบเลื่อย การหั่นแบบเงียบๆ เป็นอีกวิธีหนึ่งแบบแห้ง ไม่สัมผัสวิธีการ “ตัด” นั้นถูกสร้างขึ้นข้างในแผ่นเวเฟอร์ ไม่ใช่บนพื้นผิว

กระบวนการ 3 ขั้นตอน
- การมุ่งเน้นภายใน:เลเซอร์อินฟราเรดจะทะลุผ่านพื้นผิวของแผ่นเวเฟอร์และโฟกัสที่ความลึกที่ควบคุมได้ภายในวัสดุรองรับ
- การก่อตัวของชั้นดัดแปลง:พลังงานเลเซอร์สร้าง "ชั้นเลเซอร์" ภายในที่ควบคุมได้ (รอยแตกขนาดเล็ก / บริเวณที่ได้รับการดัดแปลง) ตามแนวเส้นตัด
- การขยายและการแยกเทป:แรงภายนอก (โดยทั่วไปคือการขยายตัวของฟิล์ม/เทป) จะแยกแผ่นเวเฟอร์ออกจากกันอย่างสะอาดตามแนวเส้นแรงเค้นภายใน
ผลลัพธ์:การแยกชิ้นส่วนที่สะอาดกว่า ลดการแตกหักและเศษวัสดุเมื่อเทียบกับการตัดด้วยเครื่องจักรกล
ขั้นตอนการทำงานโดยทั่วไป:

- การใช้เลเซอร์ในการสร้างชั้นตัดภายใน
- การขยายตัว/การแยกตัวของฟิล์ม
- การแยกชิ้นส่วน (การแยกแม่พิมพ์)

คุณสมบัติหลัก ออกแบบมาเพื่อการผลิต

การแก้ไขขอบภาพมุมกว้าง (รองรับเวเฟอร์ที่แตก/เสียหายบางส่วน)
การแก้ไขรูปทรงอัตโนมัติช่วยให้การประมวลผลมีเสถียรภาพแม้ว่าแผ่นเวเฟอร์จะไม่สมบูรณ์หรือเสียหาย ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการใช้งานและลดการแก้ไขงานด้วยตนเอง
การสแกนบาร์โค้ดสำหรับการจัดการสูตรอาหาร
การโหลดพารามิเตอร์ด้วยบาร์โค้ดช่วยให้ควบคุมการผลิตได้อย่างสม่ำเสมอและสลับสูตรการผลิตได้อย่างรวดเร็วสำหรับการผลิตที่มีผลิตภัณฑ์หลากหลาย
แท่นวางเคลื่อนที่ความแม่นยำสูง (การประมวลผลที่เสถียรและทำซ้ำได้)
แพลตฟอร์มนี้ได้รับการออกแบบมาเพื่อการเคลื่อนที่ด้วยความเร็วสูงและมีความแม่นยำสูง เพื่อรองรับการขึ้นรูปชั้นภายในที่สม่ำเสมอในระดับการผลิต
ระบบโฟกัสอัตโนมัติ + ระบบโฟกัสอัตโนมัติแบบไดนามิก (การปรับความลึกโฟกัสอย่างสม่ำเสมอ)
ความเสถียรของโฟกัสเป็นสิ่งสำคัญอย่างยิ่งในการตัดแผ่นเวเฟอร์แบบซ่อนเร้น ระบบนี้ใช้ระบบโฟกัสอัตโนมัติและโฟกัสอัตโนมัติแบบไดนามิกเพื่อช่วยรักษาระดับความลึกในการประมวลผลภายในให้คงที่ทั่วทั้งแผ่นเวเฟอร์ที่มีความสูงของพื้นผิวแตกต่างกัน (ความเสถียรของความลึกของชั้น SD ได้รับการสนับสนุนโดยการออกแบบโฟกัสติดตามอัตโนมัติ)
![]()
การกำหนดค่าการมองเห็นแบบมัลติ CCD
มีตัวเลือก CCD หลายแบบที่รองรับการจัดตำแหน่งและการจัดการแบบอัตโนมัติ รวมถึง:
- การแก้ไขมุม
- การแก้ไขระดับ
- การสอบเทียบจุดอ้างอิง
- การปรับความสว่าง CCD อัตโนมัติ
- การระบุ/การจัดการเศษชิ้นส่วนเวเฟอร์ที่เหลืออยู่
การใช้ประโยชน์จากเวเฟอร์ได้สูงกว่าเมื่อเทียบกับการตัดด้วยใบมีด
เมื่อเปรียบเทียบกับการตัดด้วยใบมีด (ล้อ) การตัดถนนสามารถลดจำนวนครั้งลงได้โดยมากกว่า 50%ซึ่งช่วยเพิ่มจำนวนชิ้นส่วนต่อแผ่นเวเฟอร์ โดยเฉพาะอย่างยิ่งมีประโยชน์อย่างมากสำหรับวัสดุพื้นฐานที่มีราคาสูง เช่น ซิลิคอนคาร์ไบด์และแซฟไฟร์

กระบวนการแบบแห้ง (ไม่ต้องทำความสะอาด)
เนื่องจากการประมวลผลเป็นแบบไม่สัมผัสและเป็นแบบแห้ง จึงสามารถลดความต้องการในการทำความสะอาดที่เกี่ยวข้องกับเศษวัสดุ และทำให้ขั้นตอนการทำงานเบื้องหลังง่ายขึ้น
พร้อมสำหรับการใช้งานร่วมกับระบบอัตโนมัติ (ขนาดมาตรฐาน 4/6/8 นิ้ว, ขนาด 12 นิ้วเป็นตัวเลือกเสริม)
ระบบการโหลด/ขนถ่ายอัตโนมัติช่วยให้การทำงานมีประสิทธิภาพ และช่วยให้ผู้ปฏิบัติงานเพียงคนเดียวสามารถตรวจสอบเครื่องมือหลายชิ้นได้ (ขึ้นอยู่กับขั้นตอนการทำงานของโรงงาน)
โมดูลหลักที่ขับเคลื่อนประสิทธิภาพ
ระบบออปติคอลอินฟราเรดแบบกำหนดเอง + แหล่งกำเนิดแสงเลเซอร์
- แหล่งกำเนิดเลเซอร์อินฟราเรดโดยเฉพาะและเส้นทางแสงที่เหมาะสม
- ความถี่ในการทำซ้ำ: 10–200 kHz
- การออกแบบทางแสงช่วยให้การส่งพลังงานมีเสถียรภาพ เพื่อการปรับเปลี่ยนภายในที่สม่ำเสมอและความเร็วในการผลิต
แพลตฟอร์มเคลื่อนที่ความเร็วสูง ความแม่นยำสูง + ระบบควบคุมการเคลื่อนที่
- การเคลื่อนที่ X/Y ความเร็วสูงเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพการทำงาน
- กลไกและการควบคุมที่มีความแม่นยำสูง ออกแบบมาเพื่อคุณภาพเส้นที่สม่ำเสมอและสามารถทำซ้ำได้
ระบบติดตามโฟกัสอัตโนมัติ
เซ็นเซอร์วัดระยะทางความแม่นยำสูงจะวัดความสูงของพื้นผิวเวเฟอร์แบบเรียลไทม์ กลไกติดตามโฟกัสจะปรับตำแหน่งโฟกัสตามนั้นเพื่อรักษาระดับความลึกของการปรับแต่งภายในให้คงที่ แม้ว่าพื้นผิวจะมีความแปรผันก็ตาม
การสนับสนุนและโลจิสติกส์ระดับโลก
เราเข้าใจดีว่าการผลิตเซมิคอนดักเตอร์เป็นการดำเนินงานระดับโลกตลอด 24 ชั่วโมง 7 วันต่อสัปดาห์ อุปกรณ์นี้กำลังช่วยปรับปรุงผลผลิตในศูนย์กลางการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ที่สำคัญทั่วโลก
- ภูมิภาคเอเชียแปซิฟิก:การสนับสนุนอย่างเต็มรูปแบบสำหรับโรงงานผลิตที่มีปริมาณการผลิตสูงในจีน ไต้หวัน ญี่ปุ่น และเกาหลีใต้.
- เอเชียตะวันออกเฉียงใต้:ระบบโลจิสติกส์ที่จัดตั้งขึ้นสำหรับสายการประกอบชิ้นส่วนท้ายเครื่องในมาเลเซีย สิงคโปร์ เวียดนาม และไทย.
- ตลาดตะวันตก:ให้บริการแก่ศูนย์วิจัยและพัฒนา และโรงงานผลิตทั่วประเทศยุโรป (เยอรมนี สหราชอาณาจักร ฝรั่งเศส)และทวีปอเมริกา (สหรัฐอเมริกา เม็กซิโก บราซิล).
ข้อกำหนดทางเทคนิค (สอดคล้องกัน)
| พารามิเตอร์ | ข้อกำหนด |
|---|---|
| ความเข้ากันได้ของเวเฟอร์ | 4", 6", 8" (มาตรฐาน), 12" (ตัวเลือกเสริม) |
| ความเร็วในการประมวลผลสูงสุด | สูงสุด1000 มม./วินาที |
| เลเซอร์ชนิด | อินฟราเรด (IR) |
| ความถี่ในการทำซ้ำ | 10–200 kHz |
| ความแม่นยำในการกำหนดตำแหน่ง (ความสามารถในการทำซ้ำ) | ±1 µm |
| ความตรงของแกน X | ±1 µm / 300 mm |
| ช่วงการเคลื่อนที่ (X/Y) | 430 มม. × 550 มม. |
| ความแม่นยำในการวัดซ้ำของแกน Z | ±1 µm |
| การหมุนทีต้า (θ) | 210°พิสัย,15 อาร์คเซคปณิธาน |
| ความเรียบของเวที | ≤ ±5 µm(ภายในระยะ 200 มม.) |
| ข้อกำหนดของสถานที่ | 220V 1 เฟส, CDA 0.5–0.8 MPa, ห้องปลอดเชื้อระดับ 1000 |
ข้อกำหนดด้านสถานที่ (เงื่อนไขการติดตั้ง)
- อุณหภูมิ:22°C ± 2°C
- ความชื้น:30–60%
- ความสะอาด:ห้องคลีนรูมระดับ 1000 หรือสูงกว่า
- CDA (ความดันอากาศ):0.5–0.8 MPa
- พลัง:เฟสเดียว 220V, 50Hz, ≥20A
- ความผันผวนของกระแสไฟฟ้า:
- ขนาดอุปกรณ์:1500(กว้าง) × 2100(ยาว) × 2180(สูง) มม.
- น้ำหนักสุทธิ:3.2 ตัน
- ควรหลีกเลี่ยงการติดตั้งใกล้กับ: แหล่งกำเนิดการสั่นสะเทือน/แรงกระแทกสูง, สัญญาณรบกวนความถี่สูงรุนแรง, บริเวณที่มีการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอย่างรวดเร็ว
เหตุใดจึงควรเลือกเครื่องหั่นซิลิโคนด้วยเลเซอร์รุ่นนี้?
อุปกรณ์หั่นแบบซ่อนเร้นนี้ได้รับการออกแบบมาสำหรับผู้ผลิตที่ต้องการก้าวข้ามข้อจำกัดของการเลื่อยแบบกลไก โดยเฉพาะอย่างยิ่งสำหรับ:
- การผลิตอุปกรณ์ไฟฟ้า SiC:ลดการสูญเสียเนื้อวัสดุจากการตัดบนวัสดุราคาแพง พร้อมทั้งปรับปรุงคุณภาพขอบชิ้นงาน
- สาย LED/แซฟไฟร์:รองรับขอบเรียบเพื่อความสม่ำเสมอของประสิทธิภาพทางแสงที่ดีขึ้น
- การผลิตแบบผสมผสานสูง:เวิร์กโฟลว์สูตรอาหารที่ขับเคลื่อนด้วยบาร์โค้ด + คุณสมบัติการจัดตำแหน่งภาพ
- โรงงานที่มุ่งเน้นการผลิตที่มีอัตราการผลิตคงที่:แท่นเคลื่อนที่ความเร็วสูงและระบบโฟกัสแบบไดนามิกเพื่อผลลัพธ์การผลิตที่สม่ำเสมอ
คำถามที่พบบ่อย (FAQ)
1) การทอยลูกเต๋าแบบลอบเร้นกับการทอยลูกเต๋าแบบใช้ใบมีดต่างกันอย่างไร?
การตัดแบบล่องหน (Stealth dicing) สร้างชั้นปรับเปลี่ยนภายในโดยใช้เลเซอร์อินฟราเรด และแยกชิ้นส่วนด้วยแรงควบคุม แทนที่จะตัดผ่านพื้นผิวด้วยใบมีดโดยตรง
2) กระบวนการนี้เป็นกระบวนการเปียกหรือไม่? จำเป็นต้องทำความสะอาดหรือไม่?
มีการระบุไว้ว่าเป็นแห้งกระบวนการนี้ได้รับการออกแบบมาเพื่อลดเศษวัสดุและขั้นตอนการทำความสะอาดเมื่อเทียบกับการเลื่อยด้วยใบมีด
3) ระบบนี้รองรับขนาดเวเฟอร์แบบใดบ้าง?
ขนาดมาตรฐาน 4", 6", 8", กับขนาด 12 นิ้ว (เลือกได้).
4) ระบบรักษาระดับความลึกของชั้นภายในให้คงที่ได้อย่างไร?
มันใช้ระบบโฟกัสอัตโนมัติ + ระบบโฟกัสอัตโนมัติแบบไดนามิกด้วยโฟกัสติดตามอัตโนมัติกลไกที่ใช้การวัดความสูงของพื้นผิวแบบเรียลไทม์
5) เครื่องมือนี้สามารถใช้งานกับเวเฟอร์ที่ชำรุดหรือเสียหายบางส่วนได้หรือไม่?
ใช่.การแก้ไขเส้นขอบมุมกว้างรองรับการประมวลผลอัตโนมัติของเวเฟอร์ที่ชำรุด/เสียหาย เพื่อลดเศษวัสดุ
ติดต่อเรา (ตัวอย่างการใช้งาน / ขอใบเสนอราคา)
โปรดส่งข้อมูลวัสดุเวเฟอร์ (Si / SiC / แซฟไฟร์), ขนาดเวเฟอร์, ความหนา และความกว้างของแถบที่ต้องการ เราสามารถแนะนำช่วงเวลาการผลิตที่เหมาะสม และจัดเตรียมการทดสอบตัวอย่างหรือขั้นตอนการสาธิตได้



