เครื่องตัดเวเฟอร์เลเซอร์แบบซ่อนเร้น สำหรับเวเฟอร์ซิลิคอน ซิลิคอนคาร์ไบด์ และแซฟไฟร์
Leave Your Message
AI Helps Write


หมวดหมู่สินค้า
สินค้าแนะนำ

ระบบตัดแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนด้วยเลเซอร์ | การตัดแบบซ่อนเร้นสำหรับ SiC และแซฟไฟร์

การตัดเวเฟอร์เป็นขั้นตอนสำคัญในขั้นตอนสุดท้ายของการผลิต ซึ่งมักเป็นขั้นตอนที่จำกัดผลผลิตเนื่องจาก...ขอบบิ่น,การปนเปื้อนของเศษซาก,การทำความสะอาดเพิ่มเติม, และพื้นที่เวเฟอร์ที่สูญเปล่าจากถนนที่ตัดผ่านกว้างขวางเลเซอร์ การทอยลูกเต๋าแบบเงียบๆ เครื่องจักร(ใช้เป็น ด้วยเช่นกัน)เครื่องหั่นซิลิคอน) แก้ไขปัญหาเหล่านี้โดยการสร้างชั้นการปรับเปลี่ยนภายในภายในเวเฟอร์โดยใช้ลำแสงโฟกัสเลเซอร์อินฟราเรด (IR)จากนั้นจึงแยกแม่พิมพ์ออกจากกันโดยใช้แรงภายนอกที่ควบคุมได้

ระบบนี้ได้รับการออกแบบมาเพื่อใช้งานในสภาพแวดล้อมการผลิต และรองรับการทำงานที่หลากหลายซิลิคอน (Si),ซิลิคอนคาร์ไบด์ (SiC),ไฟ LED แซฟไฟร์และวัสดุรองรับที่เกี่ยวข้องกับพลังงานแสงอาทิตย์ โดยมีการประมวลผลที่เสถียรเป็นไปได้ด้วยเลนส์อินฟราเรดเฉพาะทาง, aแพลตฟอร์มการเคลื่อนที่ความแม่นยำสูง, และระบบโฟกัสอัตโนมัติ + ระบบโฟกัสอัตโนมัติแบบไดนามิก.

    ภาพรวมโดยสังเขป (สรุปกระบวนการผลิต)

    • วัสดุ:เวเฟอร์ Si, SiC, แซฟไฟร์, และเวเฟอร์ที่เกี่ยวข้องกับเซลล์แสงอาทิตย์/แผงโซลาร์เซลล์
    • ขนาดของเวเฟอร์:4", 6", 8" (มาตรฐาน), 12" (ตัวเลือกเสริม)
    • ความเร็วในการประมวลผลสูงสุด:สูงสุด1000 มม./วินาที
    • ประเภทเลเซอร์: อินฟราเรด (IR),10–200 kHzความถี่ในการทำซ้ำ
    • กระบวนการ:การดัดแปลงภายใน → การขยาย/แยกฟิล์ม → การตัด (การแยกชิ้นส่วน)
    • ประโยชน์:มีเศษหินกระเด็นน้อย เศษวัสดุน้อย เหมาะสำหรับถนนแคบ กระบวนการแห้ง (ไม่มีขั้นตอนการทำความสะอาด)

    ขอบเขตการใช้งาน (ครอบคลุมเซมิคอนดักเตอร์ทุกประเภท)

    นี้ การทอยลูกเต๋าแบบเงียบๆ ระบบนี้ได้รับการออกแบบมาสำหรับวัสดุที่ตัดยากและงานที่ต้องการผลผลิตสูง:

    • แผ่นเวเฟอร์ซิลิคอน (Si):อุปกรณ์ตรรกะ หน่วยความจำ และอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ทั่วไป
    • ซิลิคอนคาร์ไบด์ (SiC):อุปกรณ์กำลังไฟฟ้า (เช่น MOSFET) ที่การลดการสูญเสียจากการตัดเป็นสิ่งสำคัญ
    • แผ่นเวเฟอร์แซฟไฟร์ LED:คุณภาพขอบภาพสูงเพื่อรองรับประสิทธิภาพการสกัดแสง
    • วัสดุสำหรับแผงโซลาร์เซลล์ / โฟโตโวลตาอิก:การประมวลผลความเร็วสูงเพื่อประสิทธิภาพด้านต้นทุน

    ตัวอย่างแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนและ SiC ที่ตัดด้วยเลเซอร์ แสดงให้เห็นขอบที่เรียบเนียนปราศจากการบิ่น

    การแก้ไขเส้นขอบมุมกว้างรวมไว้เพื่อช่วยในการประมวลผลแผ่นเวเฟอร์บางส่วนหรือเสียหายโดยอัตโนมัติ ช่วยลดเศษวัสดุที่ไม่จำเป็นและการแทรกแซงจากแรงงานคน


    วิธีการทำงานของการหั่นแบบซ่อนเร้น (การหั่นโดยการดัดแปลงภายใน)

    ต่างจากการเลื่อยด้วยใบเลื่อย การหั่นแบบเงียบๆ เป็นอีกวิธีหนึ่งแบบแห้ง ไม่สัมผัสวิธีการ “ตัด” นั้นถูกสร้างขึ้นข้างในแผ่นเวเฟอร์ ไม่ใช่บนพื้นผิว

    แผนภาพแสดงกระบวนการตัดแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนด้วยเลเซอร์ โดยใช้พัลส์สั้นพิเศษโฟกัสภายในเพื่อสร้างชั้นรอยแตกขนาดเล็ก

    กระบวนการ 3 ขั้นตอน

    1. การมุ่งเน้นภายใน:เลเซอร์อินฟราเรดจะทะลุผ่านพื้นผิวของแผ่นเวเฟอร์และโฟกัสที่ความลึกที่ควบคุมได้ภายในวัสดุรองรับ
    2. การก่อตัวของชั้นดัดแปลง:พลังงานเลเซอร์สร้าง "ชั้นเลเซอร์" ภายในที่ควบคุมได้ (รอยแตกขนาดเล็ก / บริเวณที่ได้รับการดัดแปลง) ตามแนวเส้นตัด
    3. การขยายและการแยกเทป:แรงภายนอก (โดยทั่วไปคือการขยายตัวของฟิล์ม/เทป) จะแยกแผ่นเวเฟอร์ออกจากกันอย่างสะอาดตามแนวเส้นแรงเค้นภายใน

    ผลลัพธ์:การแยกชิ้นส่วนที่สะอาดกว่า ลดการแตกหักและเศษวัสดุเมื่อเทียบกับการตัดด้วยเครื่องจักรกล

    ขั้นตอนการทำงานโดยทั่วไป:

    แผนผังแสดงขั้นตอนการทำงานของอุปกรณ์ตัดด้วยเลเซอร์แบบซ่อนตัว โดยแสดงขั้นตอนการดัดแปลงภายใน

    • การใช้เลเซอร์ในการสร้างชั้นตัดภายใน
    • การขยายตัว/การแยกตัวของฟิล์ม
    • การแยกชิ้นส่วน (การแยกแม่พิมพ์)

    ภาพประกอบขั้นตอนการทำงานทีละขั้นตอน: การสแกนเวเฟอร์ การสร้างชั้นด้วยเลเซอร์ภายใน การตัดแยก และการแยกด้วยเทปขยาย


    คุณสมบัติหลัก ออกแบบมาเพื่อการผลิต

    ส่วนประกอบภายในของเครื่องตัดเลเซอร์ รวมถึงระบบออปติคอลเฉพาะและแท่นเคลื่อนที่ความแม่นยำสูง

    การแก้ไขขอบภาพมุมกว้าง (รองรับเวเฟอร์ที่แตก/เสียหายบางส่วน)

    การแก้ไขรูปทรงอัตโนมัติช่วยให้การประมวลผลมีเสถียรภาพแม้ว่าแผ่นเวเฟอร์จะไม่สมบูรณ์หรือเสียหาย ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการใช้งานและลดการแก้ไขงานด้วยตนเอง

    การสแกนบาร์โค้ดสำหรับการจัดการสูตรอาหาร

    การโหลดพารามิเตอร์ด้วยบาร์โค้ดช่วยให้ควบคุมการผลิตได้อย่างสม่ำเสมอและสลับสูตรการผลิตได้อย่างรวดเร็วสำหรับการผลิตที่มีผลิตภัณฑ์หลากหลาย

    แท่นวางเคลื่อนที่ความแม่นยำสูง (การประมวลผลที่เสถียรและทำซ้ำได้)

    แพลตฟอร์มนี้ได้รับการออกแบบมาเพื่อการเคลื่อนที่ด้วยความเร็วสูงและมีความแม่นยำสูง เพื่อรองรับการขึ้นรูปชั้นภายในที่สม่ำเสมอในระดับการผลิต

    ระบบโฟกัสอัตโนมัติ + ระบบโฟกัสอัตโนมัติแบบไดนามิก (การปรับความลึกโฟกัสอย่างสม่ำเสมอ)

    ความเสถียรของโฟกัสเป็นสิ่งสำคัญอย่างยิ่งในการตัดแผ่นเวเฟอร์แบบซ่อนเร้น ระบบนี้ใช้ระบบโฟกัสอัตโนมัติและโฟกัสอัตโนมัติแบบไดนามิกเพื่อช่วยรักษาระดับความลึกในการประมวลผลภายในให้คงที่ทั่วทั้งแผ่นเวเฟอร์ที่มีความสูงของพื้นผิวแตกต่างกัน (ความเสถียรของความลึกของชั้น SD ได้รับการสนับสนุนโดยการออกแบบโฟกัสติดตามอัตโนมัติ)

    แผนภาพระบบติดตามโฟกัสอัตโนมัติพร้อมเซ็นเซอร์วัดระยะทางเพื่อติดตามความสูงของพื้นผิวเวเฟอร์สำหรับการตัดด้วยเลเซอร์ที่แม่นยำ

    การกำหนดค่าการมองเห็นแบบมัลติ CCD

    มีตัวเลือก CCD หลายแบบที่รองรับการจัดตำแหน่งและการจัดการแบบอัตโนมัติ รวมถึง:

    • การแก้ไขมุม
    • การแก้ไขระดับ
    • การสอบเทียบจุดอ้างอิง
    • การปรับความสว่าง CCD อัตโนมัติ
    • การระบุ/การจัดการเศษชิ้นส่วนเวเฟอร์ที่เหลืออยู่

    การใช้ประโยชน์จากเวเฟอร์ได้สูงกว่าเมื่อเทียบกับการตัดด้วยใบมีด

    เมื่อเปรียบเทียบกับการตัดด้วยใบมีด (ล้อ) การตัดถนนสามารถลดจำนวนครั้งลงได้โดยมากกว่า 50%ซึ่งช่วยเพิ่มจำนวนชิ้นส่วนต่อแผ่นเวเฟอร์ โดยเฉพาะอย่างยิ่งมีประโยชน์อย่างมากสำหรับวัสดุพื้นฐานที่มีราคาสูง เช่น ซิลิคอนคาร์ไบด์และแซฟไฟร์

    การสาธิตการใช้ประโยชน์จากแผ่นเวเฟอร์อย่างมีประสิทธิภาพสูงโดยใช้เทคโนโลยีการตัดแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนด้วยเลเซอร์ เปรียบเทียบกับการตัดด้วยใบมีด

    กระบวนการแบบแห้ง (ไม่ต้องทำความสะอาด)

    เนื่องจากการประมวลผลเป็นแบบไม่สัมผัสและเป็นแบบแห้ง จึงสามารถลดความต้องการในการทำความสะอาดที่เกี่ยวข้องกับเศษวัสดุ และทำให้ขั้นตอนการทำงานเบื้องหลังง่ายขึ้น

    พร้อมสำหรับการใช้งานร่วมกับระบบอัตโนมัติ (ขนาดมาตรฐาน 4/6/8 นิ้ว, ขนาด 12 นิ้วเป็นตัวเลือกเสริม)

    ระบบการโหลด/ขนถ่ายอัตโนมัติช่วยให้การทำงานมีประสิทธิภาพ และช่วยให้ผู้ปฏิบัติงานเพียงคนเดียวสามารถตรวจสอบเครื่องมือหลายชิ้นได้ (ขึ้นอยู่กับขั้นตอนการทำงานของโรงงาน)


    โมดูลหลักที่ขับเคลื่อนประสิทธิภาพ

    ระบบออปติคอลอินฟราเรดแบบกำหนดเอง + แหล่งกำเนิดแสงเลเซอร์

    • แหล่งกำเนิดเลเซอร์อินฟราเรดโดยเฉพาะและเส้นทางแสงที่เหมาะสม
    • ความถี่ในการทำซ้ำ: 10–200 kHz
    • การออกแบบทางแสงช่วยให้การส่งพลังงานมีเสถียรภาพ เพื่อการปรับเปลี่ยนภายในที่สม่ำเสมอและความเร็วในการผลิต

    แพลตฟอร์มเคลื่อนที่ความเร็วสูง ความแม่นยำสูง + ระบบควบคุมการเคลื่อนที่

    • การเคลื่อนที่ X/Y ความเร็วสูงเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพการทำงาน
    • กลไกและการควบคุมที่มีความแม่นยำสูง ออกแบบมาเพื่อคุณภาพเส้นที่สม่ำเสมอและสามารถทำซ้ำได้

    ระบบติดตามโฟกัสอัตโนมัติ

    เซ็นเซอร์วัดระยะทางความแม่นยำสูงจะวัดความสูงของพื้นผิวเวเฟอร์แบบเรียลไทม์ กลไกติดตามโฟกัสจะปรับตำแหน่งโฟกัสตามนั้นเพื่อรักษาระดับความลึกของการปรับแต่งภายในให้คงที่ แม้ว่าพื้นผิวจะมีความแปรผันก็ตาม


    การสนับสนุนและโลจิสติกส์ระดับโลก

    เราเข้าใจดีว่าการผลิตเซมิคอนดักเตอร์เป็นการดำเนินงานระดับโลกตลอด 24 ชั่วโมง 7 วันต่อสัปดาห์ อุปกรณ์นี้กำลังช่วยปรับปรุงผลผลิตในศูนย์กลางการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ที่สำคัญทั่วโลก

    • ภูมิภาคเอเชียแปซิฟิก:การสนับสนุนอย่างเต็มรูปแบบสำหรับโรงงานผลิตที่มีปริมาณการผลิตสูงในจีน ไต้หวัน ญี่ปุ่น และเกาหลีใต้.
    • เอเชียตะวันออกเฉียงใต้:ระบบโลจิสติกส์ที่จัดตั้งขึ้นสำหรับสายการประกอบชิ้นส่วนท้ายเครื่องในมาเลเซีย สิงคโปร์ เวียดนาม และไทย.
    • ตลาดตะวันตก:ให้บริการแก่ศูนย์วิจัยและพัฒนา และโรงงานผลิตทั่วประเทศยุโรป (เยอรมนี สหราชอาณาจักร ฝรั่งเศส)และทวีปอเมริกา (สหรัฐอเมริกา เม็กซิโก บราซิล).


    ข้อกำหนดทางเทคนิค (สอดคล้องกัน)

    พารามิเตอร์ ข้อกำหนด
    ความเข้ากันได้ของเวเฟอร์ 4", 6", 8" (มาตรฐาน), 12" (ตัวเลือกเสริม)
    ความเร็วในการประมวลผลสูงสุด สูงสุด1000 มม./วินาที
    เลเซอร์ชนิด อินฟราเรด (IR)
    ความถี่ในการทำซ้ำ 10–200 kHz
    ความแม่นยำในการกำหนดตำแหน่ง (ความสามารถในการทำซ้ำ) ±1 µm
    ความตรงของแกน X ±1 µm / 300 mm
    ช่วงการเคลื่อนที่ (X/Y) 430 มม. × 550 มม.
    ความแม่นยำในการวัดซ้ำของแกน Z ±1 µm
    การหมุนทีต้า (θ) 210°พิสัย,15 อาร์คเซคปณิธาน
    ความเรียบของเวที ≤ ±5 µm(ภายในระยะ 200 มม.)
    ข้อกำหนดของสถานที่ 220V 1 เฟส, CDA 0.5–0.8 MPa, ห้องปลอดเชื้อระดับ 1000

    ข้อกำหนดด้านสถานที่ (เงื่อนไขการติดตั้ง)

    • อุณหภูมิ:22°C ± 2°C
    • ความชื้น:30–60%
    • ความสะอาด:ห้องคลีนรูมระดับ 1000 หรือสูงกว่า
    • CDA (ความดันอากาศ):0.5–0.8 MPa
    • พลัง:เฟสเดียว 220V, 50Hz, ≥20A
    • ความผันผวนของกระแสไฟฟ้า:
    • ขนาดอุปกรณ์:1500(กว้าง) × 2100(ยาว) × 2180(สูง) มม.
    • น้ำหนักสุทธิ:3.2 ตัน
    • ควรหลีกเลี่ยงการติดตั้งใกล้กับ: แหล่งกำเนิดการสั่นสะเทือน/แรงกระแทกสูง, สัญญาณรบกวนความถี่สูงรุนแรง, บริเวณที่มีการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอย่างรวดเร็ว

    เหตุใดจึงควรเลือกเครื่องหั่นซิลิโคนด้วยเลเซอร์รุ่นนี้?

    อุปกรณ์หั่นแบบซ่อนเร้นนี้ได้รับการออกแบบมาสำหรับผู้ผลิตที่ต้องการก้าวข้ามข้อจำกัดของการเลื่อยแบบกลไก โดยเฉพาะอย่างยิ่งสำหรับ:

    • การผลิตอุปกรณ์ไฟฟ้า SiC:ลดการสูญเสียเนื้อวัสดุจากการตัดบนวัสดุราคาแพง พร้อมทั้งปรับปรุงคุณภาพขอบชิ้นงาน
    • สาย LED/แซฟไฟร์:รองรับขอบเรียบเพื่อความสม่ำเสมอของประสิทธิภาพทางแสงที่ดีขึ้น
    • การผลิตแบบผสมผสานสูง:เวิร์กโฟลว์สูตรอาหารที่ขับเคลื่อนด้วยบาร์โค้ด + คุณสมบัติการจัดตำแหน่งภาพ
    • โรงงานที่มุ่งเน้นการผลิตที่มีอัตราการผลิตคงที่:แท่นเคลื่อนที่ความเร็วสูงและระบบโฟกัสแบบไดนามิกเพื่อผลลัพธ์การผลิตที่สม่ำเสมอ

    คำถามที่พบบ่อย (FAQ)

    1) การทอยลูกเต๋าแบบลอบเร้นกับการทอยลูกเต๋าแบบใช้ใบมีดต่างกันอย่างไร?
    การตัดแบบล่องหน (Stealth dicing) สร้างชั้นปรับเปลี่ยนภายในโดยใช้เลเซอร์อินฟราเรด และแยกชิ้นส่วนด้วยแรงควบคุม แทนที่จะตัดผ่านพื้นผิวด้วยใบมีดโดยตรง

    2) กระบวนการนี้เป็นกระบวนการเปียกหรือไม่? จำเป็นต้องทำความสะอาดหรือไม่?
    มีการระบุไว้ว่าเป็นแห้งกระบวนการนี้ได้รับการออกแบบมาเพื่อลดเศษวัสดุและขั้นตอนการทำความสะอาดเมื่อเทียบกับการเลื่อยด้วยใบมีด

    3) ระบบนี้รองรับขนาดเวเฟอร์แบบใดบ้าง?
    ขนาดมาตรฐาน 4", 6", 8", กับขนาด 12 นิ้ว (เลือกได้).

    4) ระบบรักษาระดับความลึกของชั้นภายในให้คงที่ได้อย่างไร?
    มันใช้ระบบโฟกัสอัตโนมัติ + ระบบโฟกัสอัตโนมัติแบบไดนามิกด้วยโฟกัสติดตามอัตโนมัติกลไกที่ใช้การวัดความสูงของพื้นผิวแบบเรียลไทม์

    5) เครื่องมือนี้สามารถใช้งานกับเวเฟอร์ที่ชำรุดหรือเสียหายบางส่วนได้หรือไม่?
    ใช่.การแก้ไขเส้นขอบมุมกว้างรองรับการประมวลผลอัตโนมัติของเวเฟอร์ที่ชำรุด/เสียหาย เพื่อลดเศษวัสดุ


    ติดต่อเรา (ตัวอย่างการใช้งาน / ขอใบเสนอราคา)

    โปรดส่งข้อมูลวัสดุเวเฟอร์ (Si / SiC / แซฟไฟร์), ขนาดเวเฟอร์, ความหนา และความกว้างของแถบที่ต้องการ เราสามารถแนะนำช่วงเวลาการผลิตที่เหมาะสม และจัดเตรียมการทดสอบตัวอย่างหรือขั้นตอนการสาธิตได้