เครื่องจักรยกชิ้นงานด้วยเลเซอร์ความแม่นยำสูงสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง
ระบบประมวลผลด้วยเลเซอร์ขั้นสูงนี้โดดเด่นด้วยระบบขับเคลื่อนเชิงเส้นความแม่นยำสูงสำหรับหัวเลเซอร์ แท่นวางเวเฟอร์ และกล้องจัดตำแหน่ง ส่วนประกอบหลักของระบบนี้ได้รับการสนับสนุนจากซอฟต์แวร์และการควบคุมกระบวนการที่แข็งแกร่ง ทำให้เป็นโซลูชันระดับแนวหน้าสำหรับการใช้งานที่ต้องการความแม่นยำสูง เช่น การผลิต GaN LED การผลิตจอแสดงผล micro-LED และบรรจุภัณฑ์ขั้นสูง
ติดต่อเราเพื่อขอรับโซลูชันที่ปรับแต่งตามความต้องการของคุณ
ข้อดีของผลิตภัณฑ์: ความแม่นยำและการควบคุมที่เหนือกว่า
ระบบยกชิ้นงานด้วยเลเซอร์ความแม่นยำสูงของเราได้รับการออกแบบมาเพื่อความเป็นเลิศในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ที่สำคัญ ซึ่งจะมอบข้อได้เปรียบอย่างมากให้กับการดำเนินงานด้านการผลิตของคุณ
ความแม่นยำสูงและประสิทธิภาพการประมวลผลสูง
การควบคุมการเคลื่อนที่ที่ได้รับการปรับให้เหมาะสม ระบบวิชั่นความละเอียดสูง และระบบส่งลำแสงเลเซอร์ขั้นสูง ช่วยให้มั่นใจได้ถึงคุณภาพการประมวลผลที่สม่ำเสมอและการจัดแนวที่สมบูรณ์แบบ แม้ในความเร็วสูง ซึ่งจะช่วยเพิ่มผลผลิตและประสิทธิภาพสูงสุดในการใช้งานเลเซอร์ยกชิ้นงานของคุณ
การควบคุมกระบวนการและความสม่ำเสมอที่เหนือกว่า
ด้วยระบบตรวจสอบพลังงานเลเซอร์ การจัดการอุณหภูมิ และการตรวจสอบกระบวนการแบบเรียลไทม์ ระบบนี้จึงให้การควบคุมกระบวนการแยกชั้นวัสดุอย่างเหนือชั้น ช่วยลดความเสียหายของวัสดุรองรับ รับประกันการแยกชั้นอย่างสมบูรณ์ และรับประกันคุณภาพที่สม่ำเสมอในทุก ๆ ล็อตการผลิต
ความอเนกประสงค์และความง่ายในการใช้งานที่ไม่มีใครเทียบได้
อินเทอร์เฟซซอฟต์แวร์ที่ใช้งานง่ายช่วยให้สามารถตั้งโปรแกรมรูปแบบการประมวลผลที่ซับซ้อนได้อย่างง่ายดาย คุณสมบัติต่างๆ เช่น การเปลี่ยนเลนส์อย่างรวดเร็วและการปรับเทียบที่ง่าย ทำให้การสลับระหว่างระบบวัสดุและข้อกำหนดกระบวนการต่างๆ ทำได้ง่ายโดยใช้เวลาหยุดทำงานน้อยที่สุด
เพิ่มเวลาการใช้งานสูงสุดและการออกแบบที่แข็งแกร่ง
โครงสร้างที่แข็งแรงและมีเสถียรภาพทางความร้อน รวมถึงการใช้ชิ้นส่วนเลเซอร์คุณภาพสูงระดับอุตสาหกรรม ช่วยลดความต้องการในการบำรุงรักษาและเพิ่มความน่าเชื่อถือในระยะยาวของอุปกรณ์ประมวลผลเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูงนี้
ตารางข้อมูลจำเพาะทางเทคนิค
เครื่องจักรนี้ถูกสร้างขึ้นเพื่อตอบสนองความต้องการที่เข้มงวดของการผลิตเซมิคอนดักเตอร์สมัยใหม่ ตั้งแต่การวิจัยและพัฒนาไปจนถึงการผลิตในปริมาณมาก
| หมวดหมู่ | ข้อกำหนด | รายละเอียด |
|---|---|---|
| ข้อมูลทั่วไป | หมายเลขรุ่น | แอลโล-3000 โปร |
| แหล่งจ่ายไฟ | 380 VAC ±10%, สามเฟส, 50/60 Hz, 6.0 kVA | |
| ระบบทำความเย็น | จำเป็นต้องใช้เครื่องทำความเย็นแบบวงปิด | |
| พื้นที่ใช้สอย (กว้าง×ลึก×สูง) | 2000 มม. × 1500 มม. × 2200 มม. | |
| น้ำหนักเครื่องจักร | 1200 กก. | |
| สภาพแวดล้อมการทำงาน | ห้องคลีนรูมระดับ 1000 อุณหภูมิ: 20±1°C ความชื้นสัมพัทธ์: 45±5% RH | |
| ระบบเลเซอร์ | เลเซอร์ชนิด | เลเซอร์ UV DPSS |
| ความยาวคลื่น | 266 นาโนเมตร / 355 นาโนเมตร (ตัวเลือกเสริม) | |
| พลังงานพัลส์สูงสุด | 2.0 มิลลิจูล ที่ 266 นาโนเมตร | |
| อัตราการทำซ้ำ | 10-100 kHz | |
| ความกว้างของพัลส์ | ||
| คุณภาพลำแสง | M² | |
| การเคลื่อนไหวและการจัดตำแหน่ง | ระบบขับเคลื่อน | มอเตอร์เชิงเส้นแบบขับตรง |
| ความแม่นยำในการกำหนดตำแหน่ง | ±1.0 μm | |
| ความสามารถในการทำซ้ำ | ±0.5 ไมโครเมตร | |
| ความเร็วสูงสุด | X/Y: 800 มม./วินาที | |
| ขั้นตอนขั้นต่ำ | 0.1 ไมโครเมตร | |
| วิสัยทัศน์และการวางแนว | ระบบกล้อง | กล้อง CCD ความละเอียดสูง 8 ล้านพิกเซล |
| ความแม่นยำในการจัดแนว | ±2.0 ไมโครเมตร | |
| การจดจำรูปแบบ | การระบุตำแหน่งอ้างอิงอัตโนมัติ | |
| กำลังขยาย | กำลังขยาย 5X-20X (เลือกได้) | |
| ความสามารถของกระบวนการ | ขนาดของวัสดุรองรับ | เวเฟอร์ขนาด 2 นิ้วถึง 8 นิ้ว |
| พื้นที่กระบวนการ | 300 มม. × 300 มม. | |
| อัตราการไหลผ่าน | สามารถผลิตเวเฟอร์ได้สูงสุด 60 ชิ้นต่อชั่วโมง (ขนาด 2 นิ้ว) | |
| ขนาดจุดเลเซอร์ | 10 μm - 100 μm (ปรับได้) | |
| ซอฟต์แวร์และการควบคุม | ระบบควบคุม | คอมพิวเตอร์อุตสาหกรรมพร้อมหน้าจอสัมผัสขนาด 21 นิ้ว |
| วิธีการเขียนโปรแกรม | ส่วนติดต่อผู้ใช้แบบกราฟิก | |
| การจัดการสูตรอาหาร | สูตรการผลิตมากกว่า 500 รายการ | |
| การบันทึกข้อมูล | การบันทึกพารามิเตอร์กระบวนการแบบเต็มรูปแบบ | |
| อินเทอร์เฟซ | SECS/GEM, อีเธอร์เน็ต, USB |
คุณสมบัติและอุปกรณ์เสริมเพิ่มเติม (เลือกได้)
| ประเภทตัวเลือก | คุณสมบัติที่มีให้เลือก |
|---|---|
| ตัวเลือกเลเซอร์ | หัวเลเซอร์กำลังสูง |
| การกำหนดค่าความยาวคลื่นหลายแบบ | |
| เลนส์ปรับรูปร่างลำแสง | |
| ตัวลดทอนสัญญาณอัตโนมัติ | |
| ตัวเลือกการทำงานอัตโนมัติ | พอร์ตโหลด FOUP/LPU |
| หุ่นยนต์จัดการเวเฟอร์ | |
| มาตรวิทยาแบบบูรณาการ | |
| การวัดความหนาแบบอินไลน์ | |
| การตรวจสอบกระบวนการ | การตรวจสอบพลังงานแบบเรียลไทม์ |
| ระบบตรวจจับพลาสมา | |
| ระบบตรวจสอบโฟกัสอัตโนมัติ | |
| ระบบแผนที่ความร้อน | |
| การอัปเกรดซอฟต์แวร์ | การควบคุมกระบวนการขั้นสูง |
| การบำรุงรักษาเชิงพยากรณ์ | |
| การวินิจฉัยระยะไกล | |
| ระบบบริหารจัดการผลผลิต |
โซลูชันแอปพลิเคชันหลัก
การผลิตจอแสดงผลไมโคร LED (μ-LED)
-
การถอดแผ่นรองพื้นแซฟไฟร์: การแยกชั้นเอพิแท็กเซียล GaN ออกจากพื้นผิวแซฟไฟร์อย่างแม่นยำ
-
การเปิดใช้งานการถ่ายโอนมวลกระบวนการยกออกที่สะอาดและไม่ก่อให้เกิดความเสียหายสำหรับการถ่ายโอนไมโคร LED จำนวนมาก
-
การผลิตที่ให้ผลผลิตสูง: ออกแบบมาเพื่อใช้งานกับอาร์เรย์ไมโคร LED ความหนาแน่นสูงและแอปพลิเคชันด้านจอแสดงผลโดยเฉพาะ
การผลิตอุปกรณ์ไฟฟ้า
-
การประมวลผลเวเฟอร์บางเฉียบกระบวนการแยกแผ่นเวเฟอร์ที่บางเพียง 20 ไมโครเมตร
-
ความเข้ากันได้ของโลหะด้านหลัง: การประมวลผลเวเฟอร์ที่มีด้านหลังเคลือบโลหะอย่างปลอดภัย
-
วัสดุที่มีช่องว่างพลังงานกว้าง: รองรับอุปกรณ์จ่ายไฟ Si, SiC และ GaN
-
การจัดการความร้อนระบบควบคุมอุณหภูมิขั้นสูงสำหรับโครงสร้างอุปกรณ์ไฟฟ้าที่มีความไวต่อความร้อนสูง
ลูกค้าของเรา
เรารู้สึกเป็นเกียรติอย่างยิ่งที่ได้ทำงานอย่างใกล้ชิดกับพันธมิตรที่มีชื่อเสียงมากมายในระบบนิเวศของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ ในระดับโลก เราทำงานร่วมกับผู้นำในอุตสาหกรรม เช่น Honeywell, Foxconn และ HP ในประเทศจีน เราร่วมมือกับองค์กรชั้นนำ ได้แก่ Sunny Optical Technology, Sanan Optoelectronics, HT-Tech, Tsinghua Tongfang, TUS Holdings และ TCL นอกจากนี้ เรายังร่วมมือกับสถาบันการศึกษาชั้นนำ เช่น มหาวิทยาลัยซีอานเจียวตง และมหาวิทยาลัยเทคนิคตะวันตกเฉียงเหนือ โดยใช้ศักยภาพด้านการวิจัยของพวกเขาเพื่อขับเคลื่อนนวัตกรรมทางเทคโนโลยีและส่งเสริมการนำโซลูชันล้ำสมัยมาใช้ในภาคส่วนอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์
เหตุใดจึงควรเลือกอุปกรณ์ยกขึ้นด้วยเลเซอร์ของเรา?
เราเป็นผู้ให้บริการอุปกรณ์การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ที่ได้รับความไว้วางใจ โดยนำเสนอผลิตภัณฑ์ที่หลากหลายบริการ OEM/ODM และบริการออกแบบตามสั่งเพื่อให้มั่นใจว่าคุณจะได้รับโซลูชันการยกด้วยเลเซอร์ที่สมบูรณ์แบบสำหรับระบบวัสดุเฉพาะของคุณ ข้อกำหนดด้านปริมาณงาน และความต้องการในการบูรณาการกระบวนการ
คำถามที่พบบ่อย (FAQ)
ถาม: เครื่องจักรนี้เหมาะสำหรับวัสดุและการใช้งานประเภทใดบ้าง?
เอ:เครื่องนี้ได้รับการออกแบบมาโดยเฉพาะสำหรับกระบวนการยกออกด้วยเลเซอร์ในการแยก GaN/sapphire การถ่ายโอนมวลไมโคร LED การแยกฟิล์มบาง และการใช้งานด้านบรรจุภัณฑ์ขั้นสูง เราสามารถปรับแต่งระบบให้เหมาะสมกับระบบวัสดุและข้อกำหนดกระบวนการเฉพาะของคุณได้
ถาม: ฉันจะเลือกสิ่งที่ถูกต้องได้อย่างไร เครื่องยกเลเซอร์ สำหรับใบสมัครของฉัน?
เอ:ติดต่อเราพร้อมแจ้งรายละเอียดวัสดุพื้นผิว (วัสดุ ขนาด ความหนา) ปริมาณงานที่ต้องการ และข้อกำหนดเฉพาะของกระบวนการ วิศวกรผู้เชี่ยวชาญด้านการใช้งานของเราจะแนะนำการกำหนดค่าเลเซอร์และข้อกำหนดของระบบที่เหมาะสมที่สุดให้คุณ
ถาม: การรับประกันและการสนับสนุนทางเทคนิคเป็นอย่างไร?
เอ:เรานำเสนอบริการที่ครอบคลุมรับประกัน 18 เดือนระบบยกชิ้นงานด้วยเลเซอร์ทั้งหมดของเรา มาพร้อมกับการสนับสนุนทางเทคนิคตลอด 24 ชั่วโมง 7 วันต่อสัปดาห์ บริการบำรุงรักษาเป็นประจำ และอะไหล่ที่หาได้ง่าย
ถาม: คุณให้บริการสนับสนุนด้านการพัฒนาขั้นตอนการทำงานหรือไม่?
เอ:ใช่ เรามีห้องปฏิบัติการประยุกต์ใช้งานที่ครบครัน ซึ่งเราสามารถช่วยพัฒนาและปรับปรุงกระบวนการยกชิ้นงานด้วยเลเซอร์ของคุณได้ เราให้บริการถ่ายทอดกระบวนการและฝึกอบรมผู้ปฏิบัติงานอย่างครบวงจร
ถาม: ทำไมฉันจึงควรเลือกบริษัทของคุณ?
เอ:เราเชี่ยวชาญในการสร้างโซลูชันการประมวลผลด้วยเลเซอร์ที่ปรับแต่งได้สำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ตั้งแต่ระบบวิจัยและพัฒนาไปจนถึงเครื่องมือการผลิตปริมาณมาก เรามีทักษะความเชี่ยวชาญที่จะช่วยยกระดับกระบวนการผลิตของคุณ ความมุ่งมั่นของเราในด้านนวัตกรรม คุณภาพ และความสำเร็จของคุณ ทำให้เราเป็นพันธมิตรที่เหมาะสมที่สุด
พร้อมที่จะยกระดับศักยภาพการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ของคุณแล้วหรือยัง? ติดต่อผู้เชี่ยวชาญด้านการประมวลผลด้วยเลเซอร์ของเราได้วันนี้เพื่อขอรับคำปรึกษาและการประเมินการใช้งาน